原理不同。通俗的說，激光雕刻是利用激光束的灼燒使介質表面的局部實現(xiàn)氣化，而蝕刻是利用物質間的氧化還原反應實現(xiàn)金屬溶解的。

效果不同。就目前的工藝來說，激光雕刻對很多的金屬介質以及某些密度較大的物質還不能實現(xiàn)深度雕刻，往往是深度很淺，達不到速度要求。而金屬蝕刻的深度基本可以做到隨心所欲，并可結合上漆工藝實現(xiàn)彩色化多色化修飾。

適用范圍不同。激光雕刻適用范圍更廣，絕大部分介質都可以進行激光雕刻或者激光打標，而蝕刻只限于金屬或者石質等。

工藝流程不同。激光雕刻工藝簡單，流程少。而蝕刻工藝流程較多，細節(jié)較多。

生產效率不同。激光雕刻適合小批量的雕刻或者打標，蝕刻工藝更適合大批量的生產。

精度不同。一般說來，蝕刻工藝的精度更高一些，結合光刻膠工藝，線條做到0.01毫米都不成問題。